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热烈祝贺厦门祥福兴科技获得两项偏光片发明所有权
发布时间:
2024-05-07 10:20:16
热烈祝贺厦门祥福兴科技获得两项偏光片发明所有权
近日，我司与华侨大学共同申请的两项发明所有权获得国家知识产权局的授权，一件题为：“一种用于TAC膜的聚氨酯复合涂层及其制备方法”，一件题为：“一种改性石墨烯量子点及制备方法、一种石墨烯量子点/光固化树脂复合材料、一种偏光片”，两项发明所有权均涉及高性能偏光片及其制备方法。这两项偏光片的发明将为我司的高端偏光片的生产与市场推广提供有力的保驾护航。
我司与华侨大学陈国华教授团队自2015年5月起开始合作至今，双方共建“祥福兴-华大显示材料与技术”研发中心，在偏光片的国产化生产工艺及新型偏光片技术等方面开展合作研发，已经获得发明所有权成果10余件，在偏光片的新工艺技术、高阻隔偏光片、抗蓝光片、抗静电偏光片等方面不断取得成果。
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